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隱形激光切割(東京精密 ML200)

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儀器簡介

隱形切割設備,利用鐳射切割方法,能實現(xiàn)MEMS產(chǎn)品及薄晶圓的高品質(zhì)及高速加工。主要優(yōu)點有:干式加工技術,無需清洗,適用于抗負荷能力差的加工對象(如MEMS等);切割槽寬度可以非常窄,從而有助于縮小切割道;同時能抑制加工碎屑的產(chǎn)生。能切割8寸及以下硅片及玻璃片。


工藝圖:


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